天道酬勤-烏溪下游

寫畫地點：烏溪下游

創作年代：2008年

媒材規格：矽酸鈣板.彩墨63cm*60cm

採鳥瞰構圖,從水之倒影得知今日是藍天白雲天氣晴朗,增厚沙洲肌理,用以改良傳統水墨之單薄,這裡的釣客除生動畫面外還扮演著比例尺功能,顛覆傳統水墨用料。

第十屆國際藝術美展(2010全國徵件)
彩墨類-入選